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Im Fokus Onkologie
Erschienen in: Im Fokus Onkologie 5/2018

02.05.2018 | Dermatoonkologie

Hohe UV-Belastung im Job verdoppelt Risiko für Plattenepithelkarzinome

verfasst von: Beate Schumacher

Erschienen in: Im Fokus Onkologie | Ausgabe 5/2018

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Zusammenfassung

Die berufliche UV-Exposition scheint heute weitaus mehr zum Plattenepithelkarzinom-Risiko beizutragen als die Exposition außerhalb des Arbeitslebens. Darauf deutet eine Fall-Kontroll-Studie hin, an der 8 deutsche Universitäten beteiligt waren.
Literatur
Schmitt J et al. Is ultraviolet exposure acquired at work the most important risk factor for cutaneous squamous cell carcinoma? Results of the population-based case—control study FB-181. Br J Dermatol. 2018;178(2):462–72.CrossRefPubMed
Metadaten
Titel
Hohe UV-Belastung im Job verdoppelt Risiko für Plattenepithelkarzinome
verfasst von
Beate Schumacher
Publikationsdatum
02.05.2018
Verlag
Springer Medizin
Erschienen in
Im Fokus Onkologie / Ausgabe 5/2018
Print ISSN: 1435-7402
Elektronische ISSN: 2192-5674
DOI
https://doi.org/10.1007/s15015-018-3978-y

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